Китайскому производству чипов может потребоваться около десяти лет, чтобы приблизиться к возможностям ASML в области EUV-литографии. К такому выводу пришли аналитики UBS, сравнившие нынешний уровень разработок в КНР с технологиями нидерландской компании начала 2000-х.Читать дальше →
Усилия китайских производителей оборудования для выпуска полупроводниковых компонентов по импортозамещению привлекают внимание западных экспертов, и те регулярно дают свою оценку величине отставания китайских разработчиков. Немецкий производитель оптических компонентов Zeiss Group говорит о 15-летнем периоде, который может потребоваться китайским разработчикам для освоения EUV-литографии. Источник изображения: ASML
